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技術(shù)文章
TECHNICAL ARTICLES真空熱壓爐主要由爐體、爐門、加熱與保溫及測(cè)溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、充氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、液壓系統(tǒng)等組成。熱壓爐為周期作業(yè)式，廣泛應(yīng)用于硬質(zhì)合金、功能陶瓷、粉末冶金等在高溫、高真空條件下進(jìn)行熱壓燒結(jié)處理，也可在充氣保護(hù)情況下熱壓成形燒結(jié)。真空熱壓爐可采用石墨加熱、鉬絲加熱，周期式工作，適用于金屬粉末、無(wú)機(jī)非金屬材料等子真空、高溫、熱壓下進(jìn)行燒結(jié)，當(dāng)然也可以再保護(hù)氣氛下進(jìn)行燒結(jié)。從而完成材料的致密化，防止變形，還具有抑制納米粉末晶粒粗大的作用。爐體為立式爐殼，其內(nèi)層為不銹鋼制成...
CVD技術(shù)主要使用的設(shè)備是化學(xué)氣相沉積爐，該設(shè)備主要應(yīng)用于各種CVD實(shí)驗(yàn)，也可用于真空燒結(jié)、真空氣氛保護(hù)燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備等多研究領(lǐng)域?；瘜W(xué)氣相沉積是一種化工技術(shù)，該技術(shù)主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質(zhì)、在襯底表面上進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的方法?；瘜W(xué)氣相淀積是近幾十年發(fā)展起來(lái)的制備無(wú)機(jī)材料的新技術(shù)?；瘜W(xué)氣相淀積法已經(jīng)廣泛用于提純物質(zhì)、研制新晶體、淀積各種單晶、多晶或玻璃態(tài)無(wú)機(jī)薄膜材料。這些材料可以是氧化物、硫化物、氮化物、碳化物，也可以是III-...
高溫管式爐可開(kāi)啟式高溫爐內(nèi)膽輕質(zhì)高溫纖維材料制作，有兩個(gè)半圓形爐體合成，開(kāi)啟方便，可分為立式臥式，可安裝在爐架上，或根據(jù)需要將爐體安裝在其他工作臺(tái)面，爐體與控制器制成為一體化也可做為分體式。它具有多達(dá)32段升溫程序功能，只需開(kāi)通電源設(shè)置程序，機(jī)器即自動(dòng)工作，工作完畢自動(dòng)關(guān)機(jī)；儀器操作方便，升溫速度快，升溫速度可調(diào)，外形輕巧。主要用途：廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開(kāi)發(fā)、特種材料、建材、高校、科研院所、工礦企業(yè)做粉末焙燒、陶瓷燒結(jié)、高溫實(shí)驗(yàn)、材料處...
真空管式爐如果長(zhǎng)時(shí)間不使用或者用的年數(shù)多了，難免會(huì)出現(xiàn)一些故障，下面簡(jiǎn)單介紹一下真空爐常見(jiàn)的故障，與對(duì)應(yīng)的處理方法。一、電器故障（一）溫度異常，包括溫度過(guò)高報(bào)警、或顯示溫度達(dá)不到設(shè)定值。（1）溫度過(guò)高報(bào)警故障解除方法：1．首先檢查所在工作區(qū)溫控器參數(shù)是否正常，參考其他正常使用中的溫控器校對(duì)所有參數(shù)。2．根據(jù)電路圖檢查相應(yīng)工作區(qū)的固態(tài)繼電器輸出端是否被擊穿，具本方法：停電后，用萬(wàn)用表電阻檔測(cè)量固態(tài)繼電器輸出端兩點(diǎn)之間的電阻，正常時(shí)，電阻會(huì)有幾兆歐以上，如果被擊穿，則幾乎沒(méi)有電阻...
氣氛燒結(jié)爐為石墨加熱、周期作業(yè)式，采用石墨管為發(fā)熱元件，適用于金屬材料、無(wú)機(jī)非金屬材料在真空或保護(hù)氣氛下進(jìn)行燒結(jié)之用。也可用于光學(xué)材料的焙燒提純之用。1、窯爐內(nèi)的還原氣氛不同的燃燒氣氛，會(huì)導(dǎo)致粘土中的鐵氧化物變價(jià)，使制品燒成后會(huì)產(chǎn)生各種顏色的制品。使燒成后磚瓦呈現(xiàn)紅色外觀的內(nèi)在因素是三氧化二鐵；能決定外觀顏色的還有另外一個(gè)因素，就是焙燒階段的燃燒氣氛在起作用。低溫下的三氧化二鐵呈穩(wěn)定的棕紅色。而在焙燒溫度（比如1000℃）不變、三氧化二鐵含量不變的情況下，高溫下的三氧化二鐵就...
壓力燒結(jié)爐適用于氮化硅、硬質(zhì)合金等材料在高壓氮?dú)鈿夥諆?nèi)進(jìn)行燒結(jié)。有利于增加材料的燒結(jié)密度，提高材料的機(jī)械性能。燒結(jié)爐具有優(yōu)良的組織結(jié)構(gòu)、強(qiáng)度和密度?？梢詫?shí)現(xiàn)連續(xù)差壓脫脂、真空燒結(jié)和加壓燒結(jié)工藝;具有氣氛調(diào)節(jié)功能，爐內(nèi)氣氛穩(wěn)定，產(chǎn)品質(zhì)量易于控制;爐內(nèi)分壓控制，實(shí)現(xiàn)恒壓燒結(jié)。為了保證粉末壓坯在燒結(jié)過(guò)程中的脫蠟（潤(rùn)滑劑或成形劑）、還原、合金化、組織轉(zhuǎn)變等順利進(jìn)行，燒結(jié)時(shí)需要對(duì)燒結(jié)溫度、保護(hù)氣氛、壓坯傳送方式、加熱和冷卻速度等進(jìn)行控制。因此，燒結(jié)爐在結(jié)構(gòu)上應(yīng)滿足以下要求：(1)具有完...
CVD管式爐由管式爐+真空系統(tǒng)+供氣系統(tǒng)組成，大溫度可以達(dá)到1200度，可以是單溫區(qū)、雙溫區(qū)、三溫區(qū)等，真空可以達(dá)到10-3Pa，供氣系統(tǒng)是流量調(diào)節(jié)可以是質(zhì)子流量計(jì)或浮子流量計(jì)，混氣路數(shù)可以是2路、3路、4路、5路相混合。CVD管式爐產(chǎn)品特點(diǎn)：1、控制電路選用模糊PID程控技術(shù)，該技術(shù)控溫精度高，熱慣性小，溫度不過(guò)沖，性能可靠，操作簡(jiǎn)單。2、氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司知識(shí)產(chǎn)權(quán)設(shè)計(jì),提高操作便捷性。3、中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動(dòng)控制功能，高真空系統(tǒng)采用高壓強(qiáng)，耐沖擊分子...
PECVD系統(tǒng)就是為了使傳統(tǒng)的化學(xué)氣象沉積反應(yīng)溫度降低，普通CVD設(shè)備的沉積溫度大多在900℃左右，而在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應(yīng)裝置將反應(yīng)氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，可以使化學(xué)氣相沉積的溫度降到400℃左右，所以這個(gè)系統(tǒng)稱為增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。PECVD綜合了國(guó)內(nèi)大多數(shù)廠家的PECVD系統(tǒng)的優(yōu)點(diǎn)，觸摸屏集中一鍵控制，實(shí)驗(yàn)證明此結(jié)構(gòu)沉積速度快，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂。而且控制部分采用了自主研發(fā)的實(shí)驗(yàn)電爐AIO全自動(dòng)智能控制系統(tǒng)，...
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